程序升溫脫附（TPD）

　　程序升溫脫附技術(shù)也叫熱脫附技術(shù)，是近年發(fā)展起來的一種研究催化劑表面性質(zhì)及表面反應(yīng)特性的手段。表面科學(xué)研究的一個(gè)重要內(nèi)容，是要了解吸附物與表面之間成鍵的本質(zhì)，吸附在固體表面上的分子脫附的難易，主要取決于這種鍵的強(qiáng)度，熱脫附技術(shù)還可以從能量角度研究吸附劑表面和吸附質(zhì)之間的相互作用。

　　TPD提供的信息

　　TPD對于了解催化劑表面上的吸附物種及其性質(zhì)，是一種很有用的技術(shù)，從研究、分析TPD譜圖至少可以獲得以下幾個(gè)方面的信息：吸附類型（活性中心的）的個(gè)數(shù)，吸附類型的強(qiáng)度（中心的能量）；每個(gè)吸附類型中質(zhì)點(diǎn)的數(shù)目（活性中心的密度）；脫附反應(yīng)的級(jí)數(shù)；表面能量分析等方面的信息。

　　通過對TPD的圖譜，可以發(fā)現(xiàn)，根據(jù)TPD的曲線上峰的數(shù)目，峰的位置和峰面積大小就可以回答吸附物種的數(shù)量以及其近似濃度大小；通過不同的初始覆蓋度或不同的升溫速度可以求出各個(gè)物種的脫附活化能，因而就可以評(píng)價(jià)物種與表面鍵合的強(qiáng)弱根據(jù)解析動(dòng)力學(xué)的研究以及結(jié)構(gòu)其他手段（如紅外吸收光譜、核磁共振、質(zhì)譜等），可以對反應(yīng)級(jí)數(shù)、物種的形態(tài)得到解釋。

　　TPD技術(shù)優(yōu)點(diǎn)

　　TPD技術(shù)優(yōu)點(diǎn)主要在于：設(shè)備簡單易行、操作便利。不受研究對象的限制，幾乎有可能包括所有的使用催化劑，可用于研究負(fù)載型或非負(fù)載型的金屬、金屬氧化物催化劑等；從能量的角度出發(fā)，原味地考慮活性中心和與之相應(yīng)表面反應(yīng)，提供有關(guān)表面結(jié)構(gòu)的眾多情報(bào)，很容易改變實(shí)驗(yàn)條件，如吸附條件、升溫速度與程序等，從而可以獲得更加豐富的資料；對催化劑制備參數(shù)非常敏感，有著高度的鑒別能力；在同一裝置中，還可以進(jìn)行測定催化劑其他性質(zhì)（如活性表面積、金屬分散度）以及催化劑中毒，再生等條件的研究等。