然而，超材料的制備問題一直是個難題。目前常見制備工藝有電子束光刻、激光直寫、聚焦離子束刻蝕、模版輔助的電化學(xué)沉積等，這些方法有難以大面積制備、制備成本高、工藝流程繁瑣冗長且難于控制等不足。特別以模版輔助電化學(xué)沉積為例，受制于模版本身尺寸所限，超材料的微結(jié)構(gòu)幾何特征尺寸難以進(jìn)入10nm范圍內(nèi)，而且需要導(dǎo)電襯底，所得材料還有化學(xué)殘留之虞。

近日，中國科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所副研究員高俊華和研究員曹鴻濤提出了金屬陶瓷超材料薄膜制備新方法，采用傳統(tǒng)的射頻共濺射沉積工藝，輔以襯底偏壓，制備了定向排布Ag金屬納米線/氧化鋁陶瓷復(fù)合超材料薄膜，納米線間距(軸心到軸心)進(jìn)入sub-5nm區(qū)間，陣列中納米線平均直徑約為3nm;納米線長徑比可根據(jù)沉積時間來靈活調(diào)整;利用PVD鍍膜良好的擴(kuò)展性，不僅能實現(xiàn)大面積超材料薄膜的制備，還能方便地以“蓋樓”的方式構(gòu)筑多層超材料薄膜結(jié)構(gòu)，其中不同層之間可以具有相同的幾何結(jié)構(gòu)特性(直徑，間距，長徑比)，亦可以“個性化定制”各個層的結(jié)構(gòu)特性;此外，由于是在近似室溫下制備，故無須單晶或者導(dǎo)電襯底，甚至可以在PET等柔性襯底上制備，為柔性超材料這一新興概念提供了實物支撐，如圖所示。研究人員從經(jīng)典熱力學(xué)(金屬銀和氧化鋁復(fù)合物是相分離體系)、界面結(jié)合力、施加襯底偏壓后的沉積區(qū)域的濺射粒子動力學(xué)分析，輔以對比實驗(施加襯底偏壓與否)和高分辨微結(jié)構(gòu)觀察，澄清了Ag金屬納米線/氧化鋁陶瓷復(fù)合超材料薄膜直接生長的物理化學(xué)機(jī)制。

上述結(jié)構(gòu)各向異性超材料展現(xiàn)出了奇異的穩(wěn)態(tài)和瞬態(tài)光學(xué)性能。由于較小的納米線間距引發(fā)了納米線之間的強(qiáng)耦合作用，軸向的等離子共振吸收峰位可以方便地從可見光區(qū)調(diào)控至近紅外區(qū);另外，該材料在可見光區(qū)展現(xiàn)出超快的非線性光學(xué)特性，等離激元漂白過程弛豫時間在1.5皮秒左右。相關(guān)研究已經(jīng)申請了國家專利，并在《先進(jìn)材料》期刊上發(fā)表了研究成果。